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AS­ML再遭重击，NIL工艺路线10nm先进工艺无需光刻机，为中国芯片指明新方向
近日日本方面报道指东京理科大学已将NIL工艺已突破到10nm以下，这是全球首款无需光刻机的芯片制造工艺，代表着先进工艺的另一条路线，对于以光刻机为主业的AS­ML来说无疑是重大的打击。
媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率

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