2018年11月29日 20时55分
中国研制出 22 纳米芯片制造技术官媒报道，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中科院光电所研制，光刻分辨力达到 22 纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造 10 纳米级别的芯片。报道称，项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。光刻机是制造芯片的核心装备，它