自主研发制造高端微纳装备‘光刻机‘
苏大维格互动平台表示，公司自主研发制造高端微纳装备-光刻机，从设计、组装以及所用软件的开发，均由公司自主完成，自主制造光刻机是公司核心技术及核心竞争力的集中体现。公司光刻设备主要用于微纳材料包括柔性电子、MEMS以及某些特定领域半导体器件的研发与制造，公司的微纳光刻直写设备具有非接触、自动对准套刻、支持翘曲衬底图形光刻的先进功能，可为今后超颖材料、裸眼3D显示、