沈阳拓荆科技有限公司是国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的12英寸PECVD设备企业。公司自2010年成立至今，已申请专利318项，其中发明专利220项，国际专利25项，已授权105项。形成了12英寸PECVD（等离子化学气相沉积设备）、ALD（原子层沉积设备）、3D NAND PECVD（三维闪存专用薄膜设备）的三个完整系列产品，广泛应用于集成电路、3D-TSV、光波导、LED、3D-NA