黑磷在集成光电器件的信息技术上的应用突破瓶颈
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二维黑磷晶体薄膜首次突破硅基异质外延生长时间:2020-05-14 15:56:21来源:中国科学院半导体研究院分享:黑磷是一种具有高载流子迁移率(1000~10000 cm2V-1s-1)、宽带可调直接带隙(0.3~1.5 eV)和晶体各向异性等优异特性的二维层状半导体材料,在新型信息集成电子和光电子器件领域具有不可替代的应用优势。尽管近年来关于黑磷物性与原型器件的研究受到业界极大的关注,并已取
