作为集成电路制造的核心装备,光刻机决定了集成电路的特征尺寸和集成度。工件台是光刻机的核心分系统,直接影响光刻机三大性能指标中的产率和套刻精度。自32nm节点起,光刻机套刻精度要求达到2.8nm以下。光刻机套刻精度直接受工件台定位精度影响,而工件台定位精度又受到工件台位置测量精度的制约。

根据光刻机工件台的定位精度要求,需要选直线位移测量光栅作为其位置检测传感器,在此基础上完成工件台位移测量系统的