目前国内做靶材的有江丰电子，阿石创，有研新材（新疆众和，隆华科技都不是直接做靶材，暂时不计）。

高纯度溅射靶材主要是指纯度为 99.9%-99.9999%(3N-6N 之间 ) 的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积 (PVD) 工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速