光刻机专利-跃岭股份-中石光芯
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一种光刻机曝光使用夹具
本技术涉及一种光刻机曝光使用夹具。
技术介绍
光刻胶又称光致刻蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,它受紫外线曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。负性光刻胶:曝光前,可溶于显影液;曝光后,曝光区域光刻胶会因为交联而变的不可溶解于显影液。负胶显影后会图形会发生收缩或膨胀,引起光刻图形变形。正性光刻胶:曝光前,光刻胶不容易于显影液;曝光后,曝光区域可溶于显影液。正胶显影不会收缩
本技术涉及一种光刻机曝光使用夹具。
技术介绍
光刻胶又称光致刻蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,它受紫外线曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。负性光刻胶:曝光前,可溶于显影液;曝光后,曝光区域光刻胶会因为交联而变的不可溶解于显影液。负胶显影后会图形会发生收缩或膨胀,引起光刻图形变形。正性光刻胶:曝光前,光刻胶不容易于显影液;曝光后,曝光区域可溶于显影液。正胶显影不会收缩
