新一期英国《自然·纳米技术》杂志日前刊登报告说，单层的辉钼材料显示出良好的半导体特性，有些性能超过现在广泛使用的硅和科学研究热门石墨烯，可望成为下一代半导体材料。

　　辉钼是钼的二硫化物。瑞士洛桑联邦高等理工学院的科学研究人员报告说，辉钼在自然界中含量丰富，常用于冶炼合金等领域，但之前对它电学性能的科学研究却不多，而实际上单层辉钼材料具有良好的半导体特性。

　　与现在广泛使用的硅材料相比，辉