最近各大平台基本被华为及中国光刻机的相关信息刷屏了，华为就不多说了，一笔概过：中国的民族企业和科技先锋。这篇帖子主要介绍一下光刻机及中国的研发进度。

一.DUV光刻机：


1.光源：深紫外线光


2.晶圆制程极限：7nm

EUV光刻机：
1.光源：极紫外线光
2.晶圆制程极限：暂无数据，目前最先进制程3nm，据说， ASML 在研1.5nm制程。

以上便是DUV和EUV光刻机最大的区别。