光刻工厂新概念
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一、四代同步辐射光源 HEPS 概念整理
第四代同步辐射光源就是为EUV光刻而生的!
1,同步辐射光源目前已经在建的是第四代。
2,四代同步辐射光源的特点是: -占地小(当然还是很大的,足球场);
-输入能量大为减少;
-输出光源亮度更大(四代完全达到光刻需求);
-频率可以精准控制,可以只输出13.5纳米的EUV(这一点以前是不行的,以前频谱是连续的);
一可以连续稳定工作(二代已
第四代同步辐射光源就是为EUV光刻而生的!
1,同步辐射光源目前已经在建的是第四代。
2,四代同步辐射光源的特点是: -占地小(当然还是很大的,足球场);
-输入能量大为减少;
-输出光源亮度更大(四代完全达到光刻需求);
-频率可以精准控制,可以只输出13.5纳米的EUV(这一点以前是不行的,以前频谱是连续的);
一可以连续稳定工作(二代已
