弯道超车？纳米压印光刻或将是一条值得期待的路线

NIL同EUV光刻一样是次时代光刻技术的代表，随着其技术的日渐成熟已经具备导入集成电路制造的条件。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。且不论能否替代当前主流的EUV光刻机，随着苏大维格“光刻机已发货”这个乌龙事件，纳米压印这个技术路线浮