$常青科技(sh603125)$

光刻胶原材料的国产替代
对叔丁基苯乙烯特种单体及2-乙烯基萘特种单体。该两种产品属于高分子新材料特种单体，具有极大的市场潜力。据悉，2-乙烯基萘可用于高端光刻胶的生产，目前仅日本能够生产，其中IC光刻胶根据曝光波长可分g线光刻胶(436nm)、i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)等，目