财通电子美国修订出口限制规则，强度基本符合预期

美国BIS于10月17号晚间公布涉及半导体设备出口的最新限制措施，主要被限制情况如下：

1， 曝光设备：单台设备对齐精度在1.5-2.4nm之间，或精度小于1.5nm的光学设备被纳入出口管制，且美国零件比例（De Minimis Rule）为0%。部分老式光刻机可能落入此限制范围。

不过也有适用范围：用于先进集成电路生产（包括先进NAND、 D