9月13日，我国工信部信息表示国产光刻机已取得重大突破，分别是国产氟化氪光刻机（110nm）以及氟化氩光刻机（65nm）。

国际上，依据三大技术指标衡量光刻机性能：光学分辨率、套刻精度以及产能。

此次国产氟化氩光刻机套刻≤8nm，在7纳米及以上制程节点的芯片制造，实现进一步自主可控。

以下是光刻机概念股梳理

张江高科：持股上海微电子10.779%的股份。

蓝英装备：公司精密清洗设备客户为