一、9月15日消息，从工业和信息化部在官网公布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》来看，国产光刻机已取得重大突破，氟化氩光刻机套刻≤8nm。有消息称，国产氟化氩光刻机的研发主要由中国的几家领先半导体设备制造商和研究机构共同完成。其中，中微半导体设备（上海）股份有限公司（AMEC）和上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）是主要的参与者。
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1、上海微电子装备