催化：2024年9月9日，中国工业和信息化部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，氟化氩光刻机的关键技术参数。这款光刻机的晶圆直径为300mm，照明波长为193nm，分辨率达到≤65nm，套刻精度≤8nm。这些参数表明，该光刻机能够用于制造28nm工艺的芯片，对于提升国内半导体制造业的技术水平和自给自足能力具有重要意义。氟化氩光刻机的推广应用，预计将减少对国外技术的依赖