据中国光谷消息，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。

武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列！

光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40%~60%，是半导体制造中最核心的工艺，而光刻胶是光刻工艺环节需要使用的一种非常关键