美埃科技:G产自主EUV G刻机核心标的,实锤合作上海微
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一、周末被G产自主研发的E*U*V G刻机刷屏了,
此前已经爆出了EUV实物照片,相信G产自主研发的E*U*V光刻机取得了突破性飞跃。
二、美埃科技实锤为上海微电子开发国内首台 28 纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准洁净环境提供 EFU及 ULPA等产品。
上海微电子是谁?就是咱们天朝阿斯麦AMSL!
三、目前在国内半导体洁净室领域位于行业的首位,市场占有率
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此前已经爆出了EUV实物照片,相信G产自主研发的E*U*V光刻机取得了突破性飞跃。
二、美埃科技实锤为上海微电子开发国内首台 28 纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准洁净环境提供 EFU及 ULPA等产品。
上海微电子是谁?就是咱们天朝阿斯麦AMSL!
三、目前在国内半导体洁净室领域位于行业的首位,市场占有率
