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DUV 设备的使用极大地影响了国内最大的半导体公司 中芯国际 的进展。尽管此前曾声称已成功生产出 5nm 晶圆，但量产仍因成本过高和良率低而受阻。这些挫折也对一直无法跨越 7nm 门槛的华为产生了负面影响。

遗憾的是，由于美国贸易制裁禁止 ASML 向任何中国实体提供“最先进的” #euv# 光刻机，使得我国专家唯一可能的途径就是生产内部设备。根据最新报告，这些雄心勃勃的目标已经