🔍 核心投资逻辑：三大赛道驱动成长
半导体清洗设备国产替代加速（国内市占率超20%，仅次于盛美上海）
高纯工艺系统需求爆发（晶圆厂扩产+生物医药增量）
湿法设备进军先进制程（14nm以下工艺验证中，打破海外垄断）
💡 核心亮点：技术壁垒与订单弹性
1. 半导体清洗设备：国产替代核心受益者
主力产品：
单片式清洗机（可覆盖28nm，14nm在验证）
槽式清洗机（已用于成熟制程）
竞争格局：国内仅