【上海光机所EUV光刻技术获重大突破 中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子”】4月29日消息，据环球时报、观察者网等报道，中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员带领团队，绕过二氧化碳激光，使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源，已经达到国际领先水平，对中国自主开展EUV光刻有重要意义。上述报道称，该技术有望突破中国自主生产芯片的阻碍。



据悉，EUV光刻机中最核心的分系统是激光等离子