光刻工艺是集成电路制造的关键步骤，光刻技术不仅是芯片生产中最重要的技术之一，也是当今世界上最高效的高精度微加工技术，支撑着超大规模集成电路的实现和发展。目前获得EUV光源的手段主要有四种：同步辐射源(SRS)、激光产生等离子体(LPP)、放电产生等离子体(DPP)和激光辅助放电等离子体(LDP)，而周末发酵的就是LDP路径。

LDP 比 ASML 使用的激光等离子体(LPP)效率高得多。LD