近日，华为联合国内多家企业自主研发的EUV光刻机顺利完成装机调试，并已进入芯片试生产阶段。这一进展标志着我国在高端光刻技术领域取得了重要突破，有望进一步推动国内半导体产业的发展。EUV光刻机作为制造先进芯片的关键设备，其自主研发成功不仅提升了我国在全球半导体产业链中的竞争力，也为解决关键技术“卡脖子”问题提供了有力支撑。随着试生产流程的推进，预计将为国内芯片制造企业提供更多技术支持和创新动力
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