上海微电子近期在技术突破和上市进程方面有较多动态，具体如下：

- 技术突破方面：2025年5月，上海微电子成功交付首台28nm浸没式光刻机（SSA800/10i），采用ArFi技术，实现等效134nm分辨率，支持7nm及以上制程多重曝光工艺。2025年7月，有消息称其28nm的DUV光刻机实测良率冲到82%，固态光源技术大幅降低成本，同时22nm节点技术取得突破，封装光刻机性能对标全球顶尖水平