以下是电子束光刻机（EBL）产业链的核心概念股及技术进展的深度解析，结合国产突破与全球竞争格局：

一、国产技术突破：核心设备与里程碑

“羲之”电子束光刻机

我国首台国产商业电子束光刻机“羲之”于2025年8月研发成功，精度达0.6nm，线宽8nm，专攻量子芯片和新型半导体研发，无需掩膜版即可直写电路，技术比肩国际主流设备（如日本JEOL、德国Raith）。其突破填补了国内高端光刻装备空白，尤