国林科技：子公司国林半导体现有产品可以满足薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程的应用需求


同花顺（ 300033 ）金融研究中心07月07日讯，有投资者向国林科技（ 300786 ）提问， 贵司回应过没有自对准多重曝光的技术，这个本身就是芯片光刻制作的核心技术，公司不涉及是正常的。但自对准多重曝光技术需要进行多次清洗、多次沉积，从技术原理上，臭氧比其他传统湿化学品更加适合这种多