中国光刻机突破！
最受益之一必定是：掩膜版！
不管你是从国产替代，还是耗材，还是从新事物上，都将确定这一点！

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一、为何光刻机突破最受益：掩模版？—— 技术依赖与耗材属性双重驱动

1、多重曝光技术放大掩模版需求
国内光刻机突破以 DUV（深紫外）升级为核心，先进制程需依赖 N+2 等多重曝光技术（如 7nm 需 4 次曝光），单次曝光对应 1 套掩模版，曝光次数翻倍直接使掩