9月23日，上海微电子首次公开亮相了EUV极紫外光刻机参数图。随后，我国华东理工大学与国际合作团队开发出新型aZ­IF薄膜制备方法，为EUV光刻提供了关键材料。

彤程新材升级为半导体光刻胶全能玩家。

除EUV光刻胶外，彤程新材是业内少有的覆盖g线、i线、ArF及KrF光刻胶的厂商。

同行看，南大光电选择的是主攻ArF的单一突破路线，容大感光聚焦国产化率较高的PCB光刻胶，而鼎龙股份则在ArF