刻蚀设备
刻蚀设备主要用于去除特定区域材料，形成微电子元件所需的精细结构，近年来国产刻蚀设备相继实现技术突破，随着芯片线宽持续缩小以及3D结构的普及，刻蚀工艺复杂度将显著提升。
代表公司：万业企业、盛美上海、拓荆科技、芯源微、中微公司、北方华创、矩子科技、先锋精科等。

湿法设备
湿法设备通过清洗、蚀刻、去胶等工艺保障芯片表面清洁度及结构精度，覆盖晶圆制造的全部流程，在全球AI产业快速发展的推动