光刻机预期调整影响分析
展开
新凯来参展事件对资本市场和半导体板块的影响将呈现明显的短期与长期分化特征：一、短期市场反应（1个月内）
情绪面冲击：
光刻机概念股（福晶科技/奥普光电）将延续调整，部分炒作资金撤离
设备板块整体估值承压（北方华创动态PE或回落至50倍以下）
资金流向变化：
游资转向刻蚀设备标的（中微公司）
机构增持3D NAND产业链（拓荆科技/华海清科）
DUV技术
情绪面冲击：
光刻机概念股（福晶科技/奥普光电）将延续调整，部分炒作资金撤离
设备板块整体估值承压（北方华创动态PE或回落至50倍以下）
资金流向变化：
游资转向刻蚀设备标的（中微公司）
机构增持3D NAND产业链（拓荆科技/华海清科）
DUV技术
