你说的生产光刻机的普林科技，指的是普林科技（杭州）。这家2017年成立的企业，专注于纳米压印光刻技术，是国内该领域的突破性企业，以下是其核心信息：

1. 核心产品与技术突破：2025年8月，其自主研发的首台PL - SR系列喷墨步进式纳米压印光刻系统完成交付。该设备线宽精度小于10纳米，超越佳能当时14纳米的水平，且有全自主软件控制系统，非真空环境下运行产能能提升3倍。
2. 技术优势与特点：采用紫外纳米压印技术，常温操作即可让特制胶水遇紫外线快速硬化，兼顾效率与精度；相比EUV光刻机，该设备用电量仅为前者的十分之一，还能使芯片制造成本降低40%，性价比优势显著。
3. 应用与行业地位：设备已在存储芯片、硅基微显示器等领域完成研发验证，可助力国内存储芯片企业摆脱外部设备依赖；它也让我国成为全球少数掌握半导体级纳米压印端到端能力的国家，打破了日本佳能在该领域的长期垄断。
4. 当前局限：目前层间对齐精度约50纳米，远不及EUV光刻机的1纳米水平，暂不适配复杂逻辑芯片；且单台产能也落后于EUV光刻机，生产线更换适配成本较高。
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