1、近日，北京大学团队通过冷冻电子断层扫描技术（cryo-ET），解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为。这是一项颠覆性的方法创新，从实际效果看，该技术可使12英寸晶圆的光刻缺陷数量降幅超99%，直接解决了7纳米及以下先进制程中“电路桥连”等致命缺陷的核心难题。
①彤程新材（ 603650 ）：公司KrF、ArF等多款光刻胶产品有望持续放量，其中Arf光刻胶已于2025年二