一、周末重磅消息：北大突破光刻胶"黑匣子"难题

1. 消息内容
● 北京大学彭海琳教授团队采用冷冻电子断层扫描技术，首次原位解析光刻胶分子在液相环境中的三维结构与缠结行为，分辨率达5纳米以下，直接指导开发出减少光刻缺陷的产业化方案。
● 该成果攻克了7纳米及以下先进制程的良率瓶颈，突破传统工艺"反复试错"的局限，论文发表于顶级期刊《自然·通讯》。

2. 解读
● 技术颠覆性：此前光刻胶在