冲破技术垄断，光刻胶小巨人，高深莫测！
2025年下半年，我国光刻技术进入黄金发展期！
7月，清华大学开发出一种基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶；
8月，我国研制出首台电子束光刻机“羲之”；
9月，上海微电子首次公开亮相了EUV极紫外光刻机参数图；
就在10月26日，北京大学首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，光刻技术再次迎来重大突破。
得益于这股技术突破