光刻是芯片制造的核心工艺，占芯片制造1/2的时间和1/3的成本。这两年，最先进的EUV光刻机一直受到出口管制。在2025中国国际半导体设备和材料展上，新凯来公布了6大类31款设备，覆盖芯片制造全流程，包括刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节。国内对于光刻机产业链的投资和支持力度持续加大，国产高端光刻机的发展有望加速。
上海微电子：张江高科、上海电气、华建集团、海立股份、电气风电
光刻机零部件：茂莱光学