## 核心逻辑：政策、需求与技术三重共振，国产光刻从“可用”迈向“好用”

国内首台28nm浸没式光刻机（上海微电子SSA/800系列）完成交付并通过中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂验证，良率超90%、成本仅为进口设备1/3，标志着国产光刻设备从“实验室研发”进入“产线实用”阶段。在海外封锁（ ASML 先进DUV机型禁售、维修配件断供）与国内半导体产能扩张（2025年成熟制程扩产需求超30%）的