一，光刻机的发展现状
光源技术：
目前主流的光刻机使用的是深紫外(DUV)光，波长为193纳米。这种技术通过透镜来聚焦光束，从而在硅片上形成图案。虽然DUV技术已经非常成熟，但为了实现更小的特征尺寸，业界正在研发更短波长的光源，如极紫外(EUV)光，其波长为13.5纳米。EUV技术有望在未来的几年内成为主流，它将减少光刻步骤，从而提高生产效率并降低成本。

分辨率与套刻精度：
光刻机的分辨率是衡量