1 AI 应用／端侧﹣豆包手机助手发布技术预览版； DeepSeek 新发布了两个正式版模型，性能再度提升；（卡倍亿、道明光学、利和兴、优刻得、福蓉科技、联建光电、榕基软件等）

2 自主可控﹣知情人士：2027年底完成国产替代，华．为无需 EUV 光刻技术即可实现2nm级图案化的专利已经公布；地缘原因，自主可控势在必行；（利和兴、新莱英材、海立股份、卡倍亿、优刻得、国风新材、寒武纪等）

3 两