光刻机：

国内正推进28纳米浸润式光刻机量产突破，长兴科技在断供前囤积了大量设备，解决了核心短板，后续只需配套其他设备即可快速扩产。

当前炒作核心是国产量产的技术进展，而非短期订单。

刻蚀与薄膜沉积：

国产化率已大幅提升，摆脱了对美日设备的依赖。由于需用亚先进制程光刻机通过多重曝光生产先进芯片，相关工艺数量增加，设备单台价值量提升。

该环节以平台型龙头为主，业绩确定性强，但估值已较充分，