2026年翻倍股之冠石科技
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2026年翻倍股之冠石科技
目标空间:2026年目标价120元,较当前约110%!
1.光掩膜国产替代核心标的,28nm制程突破打开成长天花板,传统屏幕相关零件业务提供安全边际。
2.高端光掩膜版是现有半导体核心工艺中国产化率最低的,空间更大其它环节的已经陆续在国产化突破,只有光掩膜版亟待突破,计划2026年第二季度启动小规模试量产,目标年产12450片(覆盖180nm-28nm中高端产品),随产
目标空间:2026年目标价120元,较当前约110%!
1.光掩膜国产替代核心标的,28nm制程突破打开成长天花板,传统屏幕相关零件业务提供安全边际。
2.高端光掩膜版是现有半导体核心工艺中国产化率最低的,空间更大其它环节的已经陆续在国产化突破,只有光掩膜版亟待突破,计划2026年第二季度启动小规模试量产,目标年产12450片(覆盖180nm-28nm中高端产品),随产
