纳米二氧化硅抛光粉 镜面抛光 粒径50nm 100nm
展开
我公司二氧化硅抛光粉经纳米工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工，金属镜面抛光。
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标：
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工，金属镜面抛光。
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标：
| 型号 | |
| 外观 | |
| 粒径 | |
| 纯度 | |
| 应用 | |
| CY-SP50F | |
| 白色粉末 | |
| 50nm | |
| 99% | |
| 精细抛光 | |
| CY-SP100F | |
| 白色粉末 | |
| 100nm | |
| 99% | |
| 精细抛光 | |
话题与分类：
主题股票：
主题概念：
声明：遵守相关法律法规，所发内容承担法律责任，倡导理性交流，远离非法证券活动，共建和谐交流环境！
