### 核心业务优势
中微公司是国产半导体刻蚀设备龙头，其ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star®在2025年取得重大突破，反应台间刻蚀精度达 0.2A（亚埃级） ，约为硅原子直径的1/12，重复性误差小于0.09%，达到国际领先水平。公司5nm刻蚀设备已通过验证并进入台积电供应链，CCP刻蚀设备累计装机超5000反应台，ICP设备累计装机1800反应台。

### 行业地位
全球刻蚀