【天风电子】华为发布韬定律V2解读
展开
【天风电子】华为发布韬定律V2解读:#韬定律将麒麟芯片核心参shυ指标从台积电N6P水平直接提升至N4P水平(大幅提升两个工艺节点)、且根据工艺路线规划2031年有望迭代至N2P水平
$长电科技(sh600584)$盛科通信(sh688702)$拓荆科技(sh688072)$
华为何庭波7.3发布韬定律V2论文,相对于此前论文有非常多的细节信息披露,我们点评如下:
1?通过韬定律的工艺,第一代芯片麒麟2026(预计今年下半年量产)相对于此前的麒麟9030Pro(N+3工艺,约当台积电N6P)的关键参shυ对比:
-- 晶体管密度:从155MTr/mm2提升到238MTr/mm2,大幅提升55%,相当于三年时间的几何微缩,预计未来晶体管密度将向400MTr/mm2及更高水平迈进;
-- 性能大幅改善:主频从2.75Ghz提升至3.1GHz提升约13%,功耗大幅降低41%,SRAM工作频率增加40+%,#主频水平约相当于高通8Gen2、8Gen3的水平,#也就是台积电的N4P工艺水平;
-- 未来十年将演变为多层折叠,预计2027-2031年主频将分别提升至3.39GHz、3.71GHz、4GHz、4.3GHz、5Ghz(高通最新规划的8 Elite Gen6主频约5GHz,采用台积电N2P);
2?把组合逻辑 amp;时序逻辑 amp;模拟 amp;存储分到垂直堆叠的有源层,通过Hybrid bonding链接,让两层甚至多层电路设计像一个连续的fabric,#线长大幅缩短-->寄生RC下降-->同节点下同性能下更高频率,关键工程参shυ:
-- Hybrid bonding pitch(混合键合间距)做到1.5um;
-- 套刻精度小于0.5um;
-- TSV 关键尺寸小于1.5um;
3?韬定律通过逻辑折叠的创新工艺,大幅提升了#Gμo内先进制程在没有EUV光刻机情况下的工艺极限,我们强烈看好韬定律产业链的整体投姿机会:
-- 先进工艺及封测:#中芯Gμo际、华虹半导体、盛合晶微、长电科技、甬矽电子、汇成Gμ份;
-- 配套核心增量设备:#拓荆科技、盛美上海、华海清科、北方华创、中微公司;
-- EDA:#华大九天、概伦电子;
-- 超节点:#盛科通信、澜起科技;
$长电科技(sh600584)$盛科通信(sh688702)$拓荆科技(sh688072)$
华为何庭波7.3发布韬定律V2论文,相对于此前论文有非常多的细节信息披露,我们点评如下:
1?通过韬定律的工艺,第一代芯片麒麟2026(预计今年下半年量产)相对于此前的麒麟9030Pro(N+3工艺,约当台积电N6P)的关键参shυ对比:
-- 晶体管密度:从155MTr/mm2提升到238MTr/mm2,大幅提升55%,相当于三年时间的几何微缩,预计未来晶体管密度将向400MTr/mm2及更高水平迈进;
-- 性能大幅改善:主频从2.75Ghz提升至3.1GHz提升约13%,功耗大幅降低41%,SRAM工作频率增加40+%,#主频水平约相当于高通8Gen2、8Gen3的水平,#也就是台积电的N4P工艺水平;
-- 未来十年将演变为多层折叠,预计2027-2031年主频将分别提升至3.39GHz、3.71GHz、4GHz、4.3GHz、5Ghz(高通最新规划的8 Elite Gen6主频约5GHz,采用台积电N2P);
2?把组合逻辑 amp;时序逻辑 amp;模拟 amp;存储分到垂直堆叠的有源层,通过Hybrid bonding链接,让两层甚至多层电路设计像一个连续的fabric,#线长大幅缩短-->寄生RC下降-->同节点下同性能下更高频率,关键工程参shυ:
-- Hybrid bonding pitch(混合键合间距)做到1.5um;
-- 套刻精度小于0.5um;
-- TSV 关键尺寸小于1.5um;
3?韬定律通过逻辑折叠的创新工艺,大幅提升了#Gμo内先进制程在没有EUV光刻机情况下的工艺极限,我们强烈看好韬定律产业链的整体投姿机会:
-- 先进工艺及封测:#中芯Gμo际、华虹半导体、盛合晶微、长电科技、甬矽电子、汇成Gμ份;
-- 配套核心增量设备:#拓荆科技、盛美上海、华海清科、北方华创、中微公司;
-- EDA:#华大九天、概伦电子;
-- 超节点:#盛科通信、澜起科技;
话题与分类:
主题股票:
主题概念:
声明:遵守相关法律法规,所发内容承担法律责任,倡导理性交流,远离非法证券活动,共建和谐交流环境!
