1.马S克携手特斯拉投入168亿美元建设"Terafab"芯片制造设施，或采用FEL技术挑战EUV光刻,，对自由电子激光（FEL）技术表达明显青睐。FEL理论上可大幅降低先进芯片生产成本，但目前仍处于早期研发阶段。若该技术取得突破，将深刻影响全球光刻产业格局，国产光学与光刻相关环节有望迎来主题催化。
茂莱光学、福晶科技、奥普光电、苏大维格、炬光科技、蓝特光学、永新光学、腾景科技、中光学、北方华创、