光刻胶巨头涨价!概念股!南大光电!
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光刻胶最新涨价动态:受原材料成本上升、供应链紧张及地缘政治影响,2026 年光刻胶价格呈现显著上涨趋势,高端品类涨幅尤为明显。
高端光刻胶价格大幅跳涨:2026 年一季度,进口 ArF 光刻胶涨幅达20% 到 25%,国产 ArF 光刻胶涨幅15% 到 20%;EUV 光刻胶涨幅更是高达30% 到 35%。KrF 光刻胶涨幅也在10% 到 15%区间 。
日系厂商官宣调价:日本头部光刻胶厂商 JSR 于 2026 年 8 月向全球客户下发通知,旗下多款产品上调售价15%,新定价将于 10 月正式执行,进一步推高市场预期 。
国内龙头跟进提价:南大光电作为国内 ArF 光刻胶量产领军企业,自 2026 年 3 月起跟随海外趋势,将 ArF 干法及浸没式光刻胶报价上调15%–20% 。
当前光刻胶市场供需缺口持续扩大,预计高端 KrF/ArF 光刻胶的紧缺状态将延续至 2027 甚至 2028 年,交付周期显著拉长 。
日本头部光刻胶厂商JSR正式向全球客户下发调价通知,旗下多款光刻胶产品上调售价,涨价幅度15%,新定价将于10月正式执行。
表面看本轮涨价源于原材料、能源成本上行,深层次却是全球半导体供应链重构标志性信号。长期以来,高端光刻胶市场高度垄断,JSR、信越化学、东京应化几家日系巨头把持ArF、KrF光刻胶九成以上市场份额。地缘摩擦持续发酵,日本不断收紧对华高端光刻胶供货,新增订单审核趋严、交付周期持续拉长,叠加本次主动涨价,国内晶圆厂遭遇双重压力:采购成本持续抬升,供应链安全无法保障。
一边是海外供给收缩、持续涨价;另一边中美博弈不断升级,美方接连出台技术管制限制我国芯片产业链发展。博弈向来双向,外部封锁倒逼国内加速攻坚“卡脖子”材料,依托庞大本土晶圆产能,搭建不受海外牵制的完整供应链。光刻胶作为芯片制造核心耗材,正是国产替代、产业反制的核心赛道。
1. 行业定位:国内率先实现193nm ArF(干法+浸没式)光刻胶规模化量产、头部晶圆厂验证供货的厂商,是国产高端光刻胶标杆,直接对标信越、JSR等日系垄断企业
2. 客户:进入中芯国际、长江存储、长鑫存储等头部存储/逻辑晶圆厂供应链,覆盖28nm制程;14nm产品完成验证、小批量供货
3. 行业格局:全球ArF光刻胶长期由日本企业垄断,国产化率很低;国内赛道:南大光电领跑ArF浸没式,彤程新材优势在KrF,晶瑞电材主打i线/G线
4. 短板:光刻胶目前整体营收占比仍不高,大规模放量取决于晶圆厂长单落地;EUV光刻胶尚在研发阶段,距离商业化很远
二、MO源(金属有机前驱体,公司起家基本盘)
1. 国内龙头,全球一线供应商,国内最早实现高纯MO源产业化,打破海外垄断;
2. 产品用于LED、第三代半导体、集成电路外延,国内市占率领先,同时对外出口,为公司提供稳定现金流,反哺光刻胶长期研发投入
三、高纯电子特气(砷烷、磷烷、三氟化氮等)
1. 国内高纯砷烷、磷烷标杆企业,承担02专项,国内较早实现产业化;
2. 产品用于离子注入、刻蚀清洗,供应国内多家晶圆厂,属于半导体制造刚需耗材,是稳定基本盘业务
8月12日,南大光电在互动平台回答投资者提问时表示,公司ArF光刻胶有六款产品通过客户验证并实现销售,目前50吨产能尚未满产。另有多款产品正在下游客户处验证,公司正在积极推进产品验证和市场拓展工作。
高端光刻胶价格大幅跳涨:2026 年一季度,进口 ArF 光刻胶涨幅达20% 到 25%,国产 ArF 光刻胶涨幅15% 到 20%;EUV 光刻胶涨幅更是高达30% 到 35%。KrF 光刻胶涨幅也在10% 到 15%区间 。
日系厂商官宣调价:日本头部光刻胶厂商 JSR 于 2026 年 8 月向全球客户下发通知,旗下多款产品上调售价15%,新定价将于 10 月正式执行,进一步推高市场预期 。
国内龙头跟进提价:南大光电作为国内 ArF 光刻胶量产领军企业,自 2026 年 3 月起跟随海外趋势,将 ArF 干法及浸没式光刻胶报价上调15%–20% 。
当前光刻胶市场供需缺口持续扩大,预计高端 KrF/ArF 光刻胶的紧缺状态将延续至 2027 甚至 2028 年,交付周期显著拉长 。
日本头部光刻胶厂商JSR正式向全球客户下发调价通知,旗下多款光刻胶产品上调售价,涨价幅度15%,新定价将于10月正式执行。
表面看本轮涨价源于原材料、能源成本上行,深层次却是全球半导体供应链重构标志性信号。长期以来,高端光刻胶市场高度垄断,JSR、信越化学、东京应化几家日系巨头把持ArF、KrF光刻胶九成以上市场份额。地缘摩擦持续发酵,日本不断收紧对华高端光刻胶供货,新增订单审核趋严、交付周期持续拉长,叠加本次主动涨价,国内晶圆厂遭遇双重压力:采购成本持续抬升,供应链安全无法保障。
一边是海外供给收缩、持续涨价;另一边中美博弈不断升级,美方接连出台技术管制限制我国芯片产业链发展。博弈向来双向,外部封锁倒逼国内加速攻坚“卡脖子”材料,依托庞大本土晶圆产能,搭建不受海外牵制的完整供应链。光刻胶作为芯片制造核心耗材,正是国产替代、产业反制的核心赛道。
1. 行业定位:国内率先实现193nm ArF(干法+浸没式)光刻胶规模化量产、头部晶圆厂验证供货的厂商,是国产高端光刻胶标杆,直接对标信越、JSR等日系垄断企业
2. 客户:进入中芯国际、长江存储、长鑫存储等头部存储/逻辑晶圆厂供应链,覆盖28nm制程;14nm产品完成验证、小批量供货
3. 行业格局:全球ArF光刻胶长期由日本企业垄断,国产化率很低;国内赛道:南大光电领跑ArF浸没式,彤程新材优势在KrF,晶瑞电材主打i线/G线
4. 短板:光刻胶目前整体营收占比仍不高,大规模放量取决于晶圆厂长单落地;EUV光刻胶尚在研发阶段,距离商业化很远
二、MO源(金属有机前驱体,公司起家基本盘)
1. 国内龙头,全球一线供应商,国内最早实现高纯MO源产业化,打破海外垄断;
2. 产品用于LED、第三代半导体、集成电路外延,国内市占率领先,同时对外出口,为公司提供稳定现金流,反哺光刻胶长期研发投入
三、高纯电子特气(砷烷、磷烷、三氟化氮等)
1. 国内高纯砷烷、磷烷标杆企业,承担02专项,国内较早实现产业化;
2. 产品用于离子注入、刻蚀清洗,供应国内多家晶圆厂,属于半导体制造刚需耗材,是稳定基本盘业务
8月12日,南大光电在互动平台回答投资者提问时表示,公司ArF光刻胶有六款产品通过客户验证并实现销售,目前50吨产能尚未满产。另有多款产品正在下游客户处验证,公司正在积极推进产品验证和市场拓展工作。
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