【上观：中国极紫外光源样机国产化率达90% 目前距离量产还需3—5年】第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，创新科技馆百余项上海科创成果集中登场。在朗道燧岩的展位前，一台极紫外（EUV）光源系统样机迎来工博会首秀，这也是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，也被称作高端光刻机的“心脏”。[淘股吧]

极紫外光源是7纳米及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约我国高端芯片自主可控的关键环节。现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。尽管目前距离量产还需3—5年，但这一突破已迈出了国产EUV光源从实验室走向产业化的关键一步。（上观新闻）
日本光刻胶三巨头提价，半导体材料国产替代逻辑强化。消息面上，2026年10月1日起，日本JSR、东京应化、信越化学正式执行全新定价体系。全品类光刻胶基础涨幅约 15%，其中 ArF 系列长协上调 16%‑22%，适配 HBM 的浸没式 ArF 光刻胶最高涨幅达到 24%，现货散单涨幅更是达到 32%‑38%，KrF 光刻胶涨幅区间落在 9%‑20%。

（信息来源：格隆汇-日本多家巨头宣布：自10月1日起全球科技光刻胶新定价整体上调15%-26/9/16）

本轮涨价由AI算力需求旺盛、日系本土产能供给偏紧，以及日本出口管制政策落地共同驱动。光刻胶是半导体制造中芯片图形转移的核心材料，伴随HBM、3D NA­ND等高端存储芯片持续扩产，高端光刻胶需求不断上行。日系大厂涨价将直接抬高国内晶圆厂原材料采购成本，倒逼产业链加速推进国产替代。当前，国内光刻胶产业链高端产品有望进入客户验证、产能放量的关键周期。

10月8日晚间，鼎龙股份(300054.SZ)发布了2026年前三季度业绩预告。数据显示，公司在今年前三季度继续保持高质量的增长态势，预计实现归属于上市公司股东的净利润8.4亿元至8.6亿元，同比增长61.72%至65.57%;扣非后归母净利润7.8亿元至8.0亿元，同比增长57.72%至61.77%。

在半导体产业链整体稳步复苏及自主可控需求持续深化的背景下，鼎龙股份交出的这份成绩单，进一步验证了其作为“以半导体材料为核心的创新材料平台型公司”的成长潜力。

半导体核心材料放量显著，CMP材料与光刻胶多点开花

鼎龙股份在湖北潜江建成的这条产线，是国内首条全流程自主可控的高端光刻胶量产线，也是KrF/ArF高端光刻胶领域打破进口依赖的关键一步。

证券日报

具体来说，这条产线的核心信息如下：

产线亮点

全流程自主：实现了“有机合成—高分子合成—精制纯化—光刻胶混配”四大环节的全部自主制备，核心原料如树脂、光致产酸剂、高纯单体等均自研自产，不再依赖外购日本原料。

产能规模：潜江二期项目年产能300吨，叠加一期的30吨，总产能达到330吨，填补了国内高端ArF光刻胶的量产空白。

投产时间：二期产线于2026年3月正式投产，并快速进入爬坡阶段。

订单进展：目前已研发40余款高端晶圆光刻胶，近30款在客户端验证，其中8款ArF及KrF产品已获多家主流晶圆厂批量供货；上半年还获得了超过1000加仑的采购订单。

证券日报

当前状态

这条产线已经进入稳定运行和订单放量阶段。就在最近（2026年10月13日），鼎龙股份披露前三季度净利润预增62%—66%，半导体材料平台化布局初具雏形，潜江产线是重要的增长支点之一。