光刻机作为现代半导体工业的“心脏”，其技术精度直接决定了芯片制程的极限。它通过光学投影将纳米级电路图案“雕刻”在硅片上，是连接芯片设计与实体制造的核心枢纽。从智能手机到超级计算机，人类社会的算力革命始终建立在这台精密仪器的技术迭代之上。

一、技术原理：从“照相术”到量子极限的突破

光刻机的核心原理可类比为“纳米级照相术”。光源（如193nm深紫外光或13.5nm极紫外光）穿过印有电路图案的掩膜