聚和材料,全球银浆、国内掩膜版双料龙头
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聚和材料公司是一家专业从事新型电子浆料研发、生产与销售的高新技术企业,核心业务为光伏电池用导电浆料。今年公司通过收购韩国SKE的空白掩膜版相关业务部,切入半导体空白掩膜版赛道。摘录投资者互动平台答复如下:
答:公司计划通过“内生+外延”战略成为平台化材料科技强企,目前已形成“浆、粉、胶”三大业务,同时完成空白掩膜版业务的整合,以此为基点打造半导体材料矩阵,致力于成为平台化新材料集团。未来,公司将在夯实光伏基本盘的基础上,通过外延并购、产业合作及自主搭建专业研发团队等多元方式,持续吸纳优质技术团队与细分领域优质资产,积极挖掘长期依赖进口、存在技术垄断的细半导体核心材料,充分发挥上市公司资本实力、资金储备、完善研发体系、规模化产业化落地经验及全球化运营管理优势,赋能新业务快速迭代、产能建设与市场导入,全力打造高成长性、高附加值的半导体材料第二增长曲线,打开公司中长期成长空间。(06-26)
答:公司通过收购SKE的空白掩膜版业务,计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。如后续相关业务达到相关披露标准,公司会及时履行信息披露义务,敬请您关注公司后续披露的公告。(06-26)
答:公司通过收购韩国SKE的空白掩膜版相关业务部,切入半导体空白掩膜版赛道。公司于2026年2月28日注册成立上海聚芯光新材料有限公司聚焦光刻胶材料,主要考虑空白掩膜版上也会使用到电子束光刻胶,未来将与空白掩膜版业务协同发展。未来,公司将在夯实光伏基本盘的基础上,通过外延并购、产业合作及自主搭建专业研发团队等多元方式,持续吸纳优质技术团队与细分领域优质资产,积极挖掘长期依赖进口、存在技术垄断的细半导体核心材料,充分发挥上市公司资本实力、资金储备、完善研发体系、规模化产业化落地经验及全球化运营管理优势,赋能新业务快速迭代、产能建设与市场导入,全力打造高成长性、高附加值的半导体材料第二增长曲线,打开公司中长期成长空间。(06-26)
答:公司于2026年2月28日注册成立上海聚芯光新材料有限公司,主要是考虑空白掩膜版上也会使用到电子束光刻胶,未来将与空白掩膜版业务协同发展。目前,聚芯光已完成核心研发团队建设、产品定型等,核心团队由海内外与行业专领衔的核心技术团队,未来将依托上市公司平台资金支持、自有研发及产业化经验,加速产品研发、中试线建设与工艺放大,同步开展下游晶圆厂送样测试与客户认证工作,目标尽快实现产品验证通过与小批量供货,打破海外垄断,填补国内高端光刻胶国产化空白,助力公司壮大半导体材料事业部。(05-22)
答:空白掩膜版目前国产化水平几乎为0,公司收购的空白掩膜版资产覆盖14纳米至90纳米制程。目前,空白掩膜版产品已通过SK海力士、TMC、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证,客户反馈良好,并实现量产销售。在未来市场拓展与客户验证方面,公司采取“韩国产品先行验证,国内产能承接替代”的策略。目前公司已与国内多家Fab厂及第三方掩膜版厂完成技术交流,待公司完成收购整合后,客户将优先使用韩国生产的空白掩膜版开展为期至少半年的质量与一致性验证。一旦验证通过,客户将在国内工厂投产后快速导入,实现国产化替代。(05-22)
答:空白掩膜版,是微电子制造光刻工艺上游的核心原材料。从物理构成看,其系由经过精密抛光的高纯度基板(如合成石英或苏打玻璃)与纳米级功能薄膜层(含遮光膜及光阻层)复合而成。在光刻过程中,空白掩膜版会通过曝光、显影、刻蚀等工艺被加工成带有特定图案的「光掩膜版」,再将这些图形转移到基板上。作为光掩膜版的母材,空白掩膜版的平整度、膜层均匀性及缺陷密度等关键指标,直接决定了下游光刻图形转移的精度,进而对半导体芯片、平板显示面板等终端产品的制程良率与性能产生决定性影响。在半导体自主可控要求的推动下,国内厂商正以DUV空白掩膜版为战略突破口,加速推进中高端分部配套空白掩膜版的国产替代进程。根据灼识咨询测算,中国对空白掩膜版的需求增速显著,2024年为人民币29亿元,预计2029年增长至人民币76亿元,2025年至2029年的复合年均增长率达25.1%。中国快速增长的终端用量需求与国内当前相对较低的产能供给之间存在明显差额,这为国产替代提供了明确的市场空间。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。(05-22)
答:公司收购韩国SKE的交割程序已全部完成,目前在业务整合方面:国内委派高级管理团队入驻,全面接手并统筹海外业务运营,同步搭建国内相关组织框架;产能方面:该标的目前在韩国拥有1万片/年的产能,未来计划进行技改及新增1万片产能建设;同步,公司计划在上海新增4万片/年的产能,目前一期2万片设备订单已经签订,预估27年下半年开始投产;客户方面:在该标的完成国产身份转换后,公司大力开拓国内半导体客户,目前国内主要客户Vendor Code已完成建立,部分客户已开始对接产品测试及送样,部分客户已签订年度框架订单,部分客户约定开启验厂工作,目标年内完成主要头部客户验证。(05-22)
答:公司通过收购韩国SKE的空白掩膜版相关业务部,切入半导体空白掩膜版赛道,相比国内其他竞争对手,公司优势如下:①技术优势:公司收购韩国SKE空白掩膜版资产覆盖14纳米至90纳米制程,技术领先国内同行3-5年;②专利和工艺壁垒:公司通过收购直接获得空白掩膜版多项核心专利,国内厂商从零研发空白掩膜版需投入10亿元以上且需耗时多年;③客户资源与认证优势:韩国SKE的空白掩膜版产品通过包括SK海力士、TMC、迪思微等国内外半导体客户的量产验证并实现稳定销售。国内其他厂商的空白掩膜版产品多数仍处于客户验证或产线导入阶段,尚未形成规模化出货。(05-22)
答:公司收购的SKE半导体空白掩模版业务的交割日为2026年3月31日,在公司2026年4月29日披露的《2026年第一季度报告》中已并入资产负债表。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务,计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。(05-22)
答:公司收购韩国SKE的交割程序已全部完成,目前空白掩模版产品已通过SK海力士、TMC、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证,客户反馈良好,并实现量产销售。客户进度方面:在该标的完成国产身份转换后,公司大力开拓国内半导体客户,目前国内主要客户Vendor Code已完成建立,部分客户已开始对接产品测试及送样,部分客户已签订年度框架订单,部分客户约定开启验厂工作,目标年内完成主要头部客户验证。(04-30)
公司亮点:①聚和收购的SK Enpulse空白掩膜事业部,本身就是应韩国本土晶圆厂供应链自主可控需求,SK海力士为了空白掩膜版不受制于日本而成立的,如今直接受益SK海力士扩产。②全球高端空白掩膜长期由日本HOYA、信越、AGC三家垄断,国内没有任何一家能做。光刻胶虽然也被垄断,但国内现在有七八家可以做,而空白掩膜版如今有且只有聚和能做。③掩膜版在晶圆制造中成本排前三(硅片排第一,掩膜版和电子特气占比不相上下),而空白掩膜又占成品掩膜板生产成本50%–70%,技术最高、附加值最大的就是空白掩膜版。④聚和主业属于光伏新能源赛道,新能源基金进场扫货不算风格漂移,可以放心嗨。
展望未来:空白掩膜版是半导体制造的核心材料,全球能够实现量产的企业屈指可数,国产化水平更是几乎为0。在聚和材料完成收购前,国内高端空白掩膜版完全依赖进口,被日韩死死卡了脖子。如今聚和材料在上海规划了2期合计4万片空白掩模版产能,在韩国也计划从1万片扩产到2万片。按照产能打满,5万/片均价假设下,收入30亿,净利润10亿,在半导体高景气背景下,掩膜版30倍估值起跳,不用按计算器就知道可以再造一个聚合。昨天盘中聚和材料创年内最高价132.83元,对比年内最低价67.23元翻番都不到。在科创板上半年涨幅64%的牛市里,作为光伏正面银浆市占率全球第一、国内唯一的空白掩模版上市公司,聚和材料低估的可怕!
答:公司计划通过“内生+外延”战略成为平台化材料科技强企,目前已形成“浆、粉、胶”三大业务,同时完成空白掩膜版业务的整合,以此为基点打造半导体材料矩阵,致力于成为平台化新材料集团。未来,公司将在夯实光伏基本盘的基础上,通过外延并购、产业合作及自主搭建专业研发团队等多元方式,持续吸纳优质技术团队与细分领域优质资产,积极挖掘长期依赖进口、存在技术垄断的细半导体核心材料,充分发挥上市公司资本实力、资金储备、完善研发体系、规模化产业化落地经验及全球化运营管理优势,赋能新业务快速迭代、产能建设与市场导入,全力打造高成长性、高附加值的半导体材料第二增长曲线,打开公司中长期成长空间。(06-26)
答:公司通过收购SKE的空白掩膜版业务,计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。如后续相关业务达到相关披露标准,公司会及时履行信息披露义务,敬请您关注公司后续披露的公告。(06-26)
答:公司通过收购韩国SKE的空白掩膜版相关业务部,切入半导体空白掩膜版赛道。公司于2026年2月28日注册成立上海聚芯光新材料有限公司聚焦光刻胶材料,主要考虑空白掩膜版上也会使用到电子束光刻胶,未来将与空白掩膜版业务协同发展。未来,公司将在夯实光伏基本盘的基础上,通过外延并购、产业合作及自主搭建专业研发团队等多元方式,持续吸纳优质技术团队与细分领域优质资产,积极挖掘长期依赖进口、存在技术垄断的细半导体核心材料,充分发挥上市公司资本实力、资金储备、完善研发体系、规模化产业化落地经验及全球化运营管理优势,赋能新业务快速迭代、产能建设与市场导入,全力打造高成长性、高附加值的半导体材料第二增长曲线,打开公司中长期成长空间。(06-26)
答:公司于2026年2月28日注册成立上海聚芯光新材料有限公司,主要是考虑空白掩膜版上也会使用到电子束光刻胶,未来将与空白掩膜版业务协同发展。目前,聚芯光已完成核心研发团队建设、产品定型等,核心团队由海内外与行业专领衔的核心技术团队,未来将依托上市公司平台资金支持、自有研发及产业化经验,加速产品研发、中试线建设与工艺放大,同步开展下游晶圆厂送样测试与客户认证工作,目标尽快实现产品验证通过与小批量供货,打破海外垄断,填补国内高端光刻胶国产化空白,助力公司壮大半导体材料事业部。(05-22)
答:空白掩膜版目前国产化水平几乎为0,公司收购的空白掩膜版资产覆盖14纳米至90纳米制程。目前,空白掩膜版产品已通过SK海力士、TMC、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证,客户反馈良好,并实现量产销售。在未来市场拓展与客户验证方面,公司采取“韩国产品先行验证,国内产能承接替代”的策略。目前公司已与国内多家Fab厂及第三方掩膜版厂完成技术交流,待公司完成收购整合后,客户将优先使用韩国生产的空白掩膜版开展为期至少半年的质量与一致性验证。一旦验证通过,客户将在国内工厂投产后快速导入,实现国产化替代。(05-22)
答:空白掩膜版,是微电子制造光刻工艺上游的核心原材料。从物理构成看,其系由经过精密抛光的高纯度基板(如合成石英或苏打玻璃)与纳米级功能薄膜层(含遮光膜及光阻层)复合而成。在光刻过程中,空白掩膜版会通过曝光、显影、刻蚀等工艺被加工成带有特定图案的「光掩膜版」,再将这些图形转移到基板上。作为光掩膜版的母材,空白掩膜版的平整度、膜层均匀性及缺陷密度等关键指标,直接决定了下游光刻图形转移的精度,进而对半导体芯片、平板显示面板等终端产品的制程良率与性能产生决定性影响。在半导体自主可控要求的推动下,国内厂商正以DUV空白掩膜版为战略突破口,加速推进中高端分部配套空白掩膜版的国产替代进程。根据灼识咨询测算,中国对空白掩膜版的需求增速显著,2024年为人民币29亿元,预计2029年增长至人民币76亿元,2025年至2029年的复合年均增长率达25.1%。中国快速增长的终端用量需求与国内当前相对较低的产能供给之间存在明显差额,这为国产替代提供了明确的市场空间。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。(05-22)
答:公司收购韩国SKE的交割程序已全部完成,目前在业务整合方面:国内委派高级管理团队入驻,全面接手并统筹海外业务运营,同步搭建国内相关组织框架;产能方面:该标的目前在韩国拥有1万片/年的产能,未来计划进行技改及新增1万片产能建设;同步,公司计划在上海新增4万片/年的产能,目前一期2万片设备订单已经签订,预估27年下半年开始投产;客户方面:在该标的完成国产身份转换后,公司大力开拓国内半导体客户,目前国内主要客户Vendor Code已完成建立,部分客户已开始对接产品测试及送样,部分客户已签订年度框架订单,部分客户约定开启验厂工作,目标年内完成主要头部客户验证。(05-22)
答:公司通过收购韩国SKE的空白掩膜版相关业务部,切入半导体空白掩膜版赛道,相比国内其他竞争对手,公司优势如下:①技术优势:公司收购韩国SKE空白掩膜版资产覆盖14纳米至90纳米制程,技术领先国内同行3-5年;②专利和工艺壁垒:公司通过收购直接获得空白掩膜版多项核心专利,国内厂商从零研发空白掩膜版需投入10亿元以上且需耗时多年;③客户资源与认证优势:韩国SKE的空白掩膜版产品通过包括SK海力士、TMC、迪思微等国内外半导体客户的量产验证并实现稳定销售。国内其他厂商的空白掩膜版产品多数仍处于客户验证或产线导入阶段,尚未形成规模化出货。(05-22)
答:公司收购的SKE半导体空白掩模版业务的交割日为2026年3月31日,在公司2026年4月29日披露的《2026年第一季度报告》中已并入资产负债表。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务,计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料,能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持,空白掩膜版国产替代趋势确定。(05-22)
答:公司收购韩国SKE的交割程序已全部完成,目前空白掩模版产品已通过SK海力士、TMC、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证,客户反馈良好,并实现量产销售。客户进度方面:在该标的完成国产身份转换后,公司大力开拓国内半导体客户,目前国内主要客户Vendor Code已完成建立,部分客户已开始对接产品测试及送样,部分客户已签订年度框架订单,部分客户约定开启验厂工作,目标年内完成主要头部客户验证。(04-30)

展望未来:空白掩膜版是半导体制造的核心材料,全球能够实现量产的企业屈指可数,国产化水平更是几乎为0。在聚和材料完成收购前,国内高端空白掩膜版完全依赖进口,被日韩死死卡了脖子。如今聚和材料在上海规划了2期合计4万片空白掩模版产能,在韩国也计划从1万片扩产到2万片。按照产能打满,5万/片均价假设下,收入30亿,净利润10亿,在半导体高景气背景下,掩膜版30倍估值起跳,不用按计算器就知道可以再造一个聚合。昨天盘中聚和材料创年内最高价132.83元,对比年内最低价67.23元翻番都不到。在科创板上半年涨幅64%的牛市里,作为光伏正面银浆市占率全球第一、国内唯一的空白掩模版上市公司,聚和材料低估的可怕!

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聚是满天星剧本要重演吗[吐舌头]
(转帖)一块芯片从设计图纸到最终量产,中间有一道容易被忽略但至关重要的环节——掩膜版。业内常把它比作传统胶卷相机的“底片”:光刻机发出的光源透过掩膜版,将设计好的电路图案投射到晶圆表面,再经过显影、刻蚀等一系列工序,才最终形成芯片内部的电路结构。没有掩膜版,再先进的芯片设计都无法变成实物。这个环节正在经历一轮罕见的价格与交期双重压力。今年以来,上游掩膜版已经完成三轮提价。成熟制程品类累计涨幅在8%到12%之间,DUV高端品类涨了15%到20%,而AI芯片和先进封装用的高端掩膜,年内涨幅更是超过了30%。交期从原来的15天直接拉长到45到75天,部分紧缺规格甚至要排产3个月以上。为什么涨得这么猛?核心驱动来自需求端的结构性变化。
普通芯片生产需要20到40张掩膜版,但4nm工艺的AI GPU量产版大概要用50到70张,如果算上流片、测试、改版等环节,整体用量能达到70到90张——是普通芯片的2到3倍。与此同时,国内晶圆厂和封测厂持续扩产,而海外三大掩膜版厂的产能优先保障台积电、三星这些核心客户,国内供给缺口越来越大。掩膜版作为光刻环节供给弹性最小的耗材,涨价传导非常顺畅。从全球市场格局来看,这块“底片”的供给高度集中。日本凸版(Toppan)、大日本印刷(DNP)和美国福尼克斯(Photronics)三家企业合计占据了全球超过70%的光掩模市场份额。分节点看国产化率差异很大:130nm及以上的成熟制程,国内几家厂商已经能稳定供应;但90nm以下,尤其是28到40nm节点,基本还是靠进口。高端空白掩膜版之前更是100%依赖进口。
未来3到5年,掩膜版大概率会处于量价齐升的周期中。AI芯片和先进封装带来的需求增量远高于普通芯片,海外三大家的产能扩张速度跟不上全球晶圆厂扩产节奏,国内晶圆厂的缺口会持续由国产厂商填补。在替代节奏上,成品掩膜版和上游空白掩膜版是两个不同量级的赛道。成品掩膜版因为客户都是本土晶圆厂,国内厂商已经有成熟产能,28nm节点也在推进,导入速度会更快。空白掩膜版的技术壁垒更高——对石英基板纯度、薄膜沉积均匀性、缺陷控制的要求都达到纳米级,客户验证周期更长,替代进度会比成品版慢。
目前国内掩膜版赛道主要有四家代表性企业,各自走了不同的路线:
1、清溢光电是国内成立最早的掩膜版厂商。基本盘是显示掩膜,京东方、华星光电的核心供应商。半导体业务目前占比约10%。180nm节点已经稳定批量供货,130nm节点小批量出货,28nm节点正在客户验证阶段。佛山总投资12亿的高端半导体掩膜基地2026年开始爬坡,重点覆盖90nm到28nm的逻辑和模拟芯片需求。它同时也布局了先进封装用掩膜,供长电科技、通富微电、芯联集成这些头部封测厂。
2、路维光电走的是显示加半导体双轮驱动路线。G11高世代显示掩膜已经满产满销。半导体领域,90nm节点稳定量产,65nm产品已经送样验证,28nm节点在研。厦门总投资20亿的高精度掩膜基地2026年下半年试产,11条生产线陆续落地。客户覆盖中芯国际、华虹半导体、京东方、华星光电。
3、龙图光罩是三家里半导体业务纯度最高的——只做半导体掩膜,不做显示业务。130nm节点稳定量产,90nm批量供货,65nm产品已实现验证及小批量供货。总投资19.5亿的40到28nm新产线正在建设,达产后年新增1.5万片产能,覆盖KrF、ArF相移掩膜等高端品类。2025年毛利率57%,是行业内最高的。
4、聚和材料走的是一条差异化路线——通过收购韩国SKE切入上游空白掩膜版赛道。空白掩膜版占整个掩膜版价值链的60%左右,技术壁垒最高,全球能做的厂商不超过5家,之前国内完全空白。目前产品已通过SK海力士、中微掩模等客户的量产验证并实现出货。不过SKE本身在韩国也不是一线空白版厂商,技术实力和HOYA、信越这些龙头还有差距,目前供货的量级和持续性还需要观察。
从业务结构来看,四家的差异很明显:龙图光罩100%收入来自半导体掩膜,新产线投产直接拉动整体业绩,没有显示业务稀释弹性。路维光电半导体占比逐年提升,显示业务提供现金流支撑。清溢光电半导体只占10%左右,基本盘是显示掩膜。聚和材料掩膜版业务占比极小,大部分收入还是光伏银浆。
核心客户方面:路维光电客户名单覆盖中芯国际、华虹半导体、京东方、华星光电,订单来源多元化。龙图光罩客户覆盖国内主流晶圆厂、 MEMS 厂商和先进封装厂。清溢光电显示客户很强,半导体客户集中在先进封装端。聚和材料通过了SK海力士和中微掩模的验证,但目前订单规模最小。
关于估值,可以放在半导体设备材料这个坐标系里看。半导体设备龙头2026年平均PE大概在35到40倍,弹性大的在45到50倍;半导体材料龙头平均PE在30到40倍。掩膜版国产替代还在90到28nm的早期阶段,很多订单还没落地,确定性和设备材料龙头比还有差距。
展望2027年,不同企业的看点各不相同。
清溢光电的佛山基地产能释放后,半导体业务从2亿往5到8亿走,占比提到15%到20%。显示业务继续托底,半导体变成实实在在的利润增量。
龙图光罩2027年是关键节点。如果28nm客户验证通过、产能翻倍顺利,1.5万片新增产能满产,营收可能翻2到3倍。但如果28nm验证卡壳或者客户导入慢,产能利用率上不去,压力也会很大。
路维光电2027年厦门基地开始贡献收入,半导体业务占比从10%以下提到15%到20%。但半导体客户深度和高端节点(65nm、28nm)的进展,决定估值能走多远。
聚和材料2027年看订单。如果空白掩膜版能拿到国内晶圆厂的大单,因为是上游材料加独家逻辑,弹性可能最大。如果还是小规模供货,光伏银浆主业继续占大头,估值逻辑就会不一样。
[图片](转帖)一块芯片从设计图纸到最终量产,中间有一道容易被忽略但至关重要的环节——掩膜版。业内常把它比作传统胶卷相机的“底片”:光刻机发出的光源透过掩膜版,将设计好的电路图案投射到晶圆表面,再经过
[展开]学不完,根本学不完!
其实就关键一点没有台积电这种,中芯国际差点意思,那么设计在牛逼都是空中楼阁吧,至于其他知识点太多也学不会
股民每天都在充电。学不完,根本学不完!
科创50中阴棒了都。
今天能收阳线的科技股,就是明天市场做多的生力军!
今天能收阳线的科技股,就是明天市场做多的生力军!
我感觉大A股民真的难,啥都要学,最后学半天发现是小作文[囧]
其实今年4月份开始,缅A股民已经旧貌换新颜,开始学咪咕,成天活在不知道哪天要崩盘的恐惧中。