国产浸没式 DUV 启动初期制造
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7 月 27 日，The Information 报道称，一家未具名的上海国资背景企业已经开始制造国产浸没式 DUV。
今年初期数量约 5 台，2027 年目标约 20 台，计划面向中芯国际、华虹和长鑫存储。项目整合了包括宇量昇在内的多支研发团队。
2025 年，中芯国际被报道测试宇量昇开发的国产浸没式 DUV。不到一年，进度从客户测试推进到初期多机制造。
约 5 台设备将同时面对整机重复装调、零部件一致性、晶圆厂工艺适配和现场维护。光源、物镜、双工件台和浸没流控不仅要在一台设备上跑通，还要在不同机台上保持稳定。
设备搬入晶圆厂后，涂胶显影、ArF 光刻胶、半导体掩膜版和量检测设备也会进入协同验证。
芯源微对应前道涂胶显影设备，南大光电布局 ArF 光刻胶，清溢光电布局半导体掩膜版，中科飞测提供晶圆检测与量测设备，茂莱光学的相关光学系统应用于半导体量检测设备。（上述为公司公开业务位置，尚不等同于国产 DUV 项目的实际供货关系。）
首批设备接下来要跑完装机联调、工艺适配、套刻与缺陷验证，再接受 WPH、MTBF和稼动率的长期考核。
对于国产DUV来说，5 台只是起点。
它背后站着光源、光学、精密运动、材料和整机工程，也托举着中国芯片制造的底层能力。
国产 DUV 每向前一寸，中国高端制造的边界，就向外推一寸。
今年初期数量约 5 台，2027 年目标约 20 台，计划面向中芯国际、华虹和长鑫存储。项目整合了包括宇量昇在内的多支研发团队。
2025 年，中芯国际被报道测试宇量昇开发的国产浸没式 DUV。不到一年，进度从客户测试推进到初期多机制造。
约 5 台设备将同时面对整机重复装调、零部件一致性、晶圆厂工艺适配和现场维护。光源、物镜、双工件台和浸没流控不仅要在一台设备上跑通，还要在不同机台上保持稳定。
设备搬入晶圆厂后，涂胶显影、ArF 光刻胶、半导体掩膜版和量检测设备也会进入协同验证。
芯源微对应前道涂胶显影设备，南大光电布局 ArF 光刻胶，清溢光电布局半导体掩膜版，中科飞测提供晶圆检测与量测设备，茂莱光学的相关光学系统应用于半导体量检测设备。（上述为公司公开业务位置，尚不等同于国产 DUV 项目的实际供货关系。）
首批设备接下来要跑完装机联调、工艺适配、套刻与缺陷验证，再接受 WPH、MTBF和稼动率的长期考核。
对于国产DUV来说，5 台只是起点。
它背后站着光源、光学、精密运动、材料和整机工程，也托举着中国芯片制造的底层能力。
国产 DUV 每向前一寸，中国高端制造的边界，就向外推一寸。
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